根據光亮劑的不同，有部分光亮劑中（zhōng）含有AE0成分的鍍光亮（liàng）銅（tóng）工藝鍍後（hòu）需除膜（mó）方可再進入鍍鎳工序。如果不（bú）增加除（chú）膜（mó）工序，會影響銅層和鎳層之間的結（jié）合力。

    (1)陽（yáng）極電解除膜

    氫氧化（huà）鈉（nà）20g/L

    碳酸鈉20g/L

    陽極電流（liú）密（mì）度3～5A/dm2

    溫度30～50℃

    時間5～15s

    陰極鋼板

    (2)化學除膜（mó）

    氫氧化鈉30～50g/L

    十二烷基硫酸鈉2～4g/L

    溫度40～60℃C

    時間（jiān）5～15s鍍件經除膜後，要清洗幹（gàn）淨（jìng）並經稀硫酸中和後，再進（jìn）入鍍光亮鎳工（gōng）序。如鍍（dù）光亮銅後直接鍍（dù）鉻，可不必（bì）除膜。3.4溶液配製

    ①在鍍槽中加入2/3的去離子水，並加熱至（zhì）30～40℃，將計算量的硫酸銅溶（róng）解於水中，不斷攪拌使之（zhī）完全溶解。

    ②將計算量的硫酸在不斷攪拌下慢慢加入槽中(硫酸（suān）加入水中時有放熱反應過程)。

    ③補純水或蒸餾水至工（gōng）作麵。

    ④在不斷攪拌下（xià），加入過氧化氫(H202)lmL/L，如此時鍍液溫度不足50℃時，需加（jiā）熱至50℃，將多餘（yú）的過氧化氫除去，然後在不（bú）斷攪拌下加入活性炭3～5g/L，繼續攪拌20～30min，靜置2～3h後過濾。

    ⑤加（jiā）入計算量的光亮劑。

    ⑥通電處理2～4h，並試鍍，合格後（hòu）轉入生產。